抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

氧化铝和碳化硅抛光液 是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，平整性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。

真正的汽车封釉美容工序是相当复杂的，认真做下来没有3-4个小时是做不出来的。 简单的说，先用火山灰制成的去污黏土在漆面仔细擦拭，粘除沙尘、油污。接着用静电轮配合增光剂，除去汽车漆面附着的杂物和氧化的层面，使细微的伤痕拉平填满。同时使药剂渗进车漆内发生还原变化，达到增艳如新的效果。 然后再用专用振抛机将类似釉的保护剂通过振动挤压进入漆的毛孔内，配合红外线灯的照射，使之形成如同网状的牢固保护层，其内部富含UV紫外线剂，可以大大降低紫外线对车漆的损伤，并能防酸碱等化学成分的腐蚀。 后一道工序是用无尘纸和波浪棉轻抛漆面，名叫镜面处理。经过这番美容，真正可以使您的旧车焕然一新、光亮照人。